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《中国化学会第28届学术年会第4分会场摘要集》2012年
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用于纳米球刻蚀的大面积、高强度胶体晶体单层薄膜制备

郑露  余洁  严清峰  
【摘要】:正纳米球刻蚀技术是一种基于化学自组装的高效制备大面积周期性纳米点阵的方法,具有成本低廉、工艺操作简单等优点,其核心是衬底上大面积、高质量胶体晶体单层掩膜的制备。近年来,水气界面自组装方
【作者单位】:清华大学化学系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
【分类号】:TB383.2

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