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《第十届全国敏感元件与传感器学术会议论文集》2007年
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PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合研究

薛向尧  张平  黎海文  刘永顺  吴一辉  
【摘要】:为了实现室温、常压下聚二甲基硅氧烷(PDMS)与硅的键合,利用氧等离子体分别对 PDMS、硅进行表面改性处理。考察了等离子体射频电源功率、处理时间、氧气流量对 PDMS-硅键合强度的影响。通过优化工艺适当降低 PDMS 表面被氧化的程度,可使 PDMS 活性表面的持续时间延长至45 min,实现了 PDMS-硅在室温常压下的永久性键合。通过 X 射线光电子能谱(XPS)对改性后 PDMS 表面化学组分变化的分析,可推断出 PDMS 表面 Si—OH 的稳定性是影响键合强度的主要因素。

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