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《第七届全国化学镀会议论文集》2004年
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Ni-P-纳米SiO_2化学复合镀工艺初探

尹国光  康福家  
【摘要】:研究Ni-P-纳米SiO_2化学复合镀工艺配方。运用正交试验法,通过测量镀层孔隙率、结合强度和对镀层光亮度的比较,筛选了复合镀溶液配方,试验了溶液pH值和温度对镀层质量的影响,确定了纳米SiO_2微粒的加入方法。结果表明,该工艺稳定性好,纳米SiO_2微粒在镀液中分散均匀,在pH3.5~4.0,温度85~90℃范围内所得Ni-P-纳米SiO_2复合镀层结合强度达到GB/T13913-92要求,无孔隙、光亮度好。
【作者单位】:泉州师范学院化学系 泉州师范学院化学系
【分类号】:TQ153

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