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《微机电惯性技术的发展现状与趋势——惯性技术发展动态发展方向研讨会文集》2011年
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提高石英基片Cr/Au掩膜抗腐蚀性的试验性研究

刘韧  李海燕  李佳  
【摘要】:针对溅射掩膜的难点,在深入分析掩膜缺陷形成机理的基础上,通过改进装片工装以控制基片洁净度、优化溅射工艺参数以获得更好的膜层厚度均匀性、镀膜前清洗时加入HF预处理和等离子轰击以提高膜层附着力,优化退火工艺以降低膜层残余应力,最终获得了具有更强抗腐蚀性能的Cr/Au/Cr/Au掩膜。
【作者单位】:北京自动化控制设备研究所
【分类号】:TN304.055

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【参考文献】
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