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《中国光学学会2011年学术大会摘要集》2011年
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光子晶体光纤化学腐蚀的数值模拟和实验研究

王闵  代吉祥  杨明红  
【摘要】:本文建立了一种光子晶体光纤化学腐蚀的光学模型,数值模拟了这种腐蚀光子晶体光纤在不同条件下的光学特性,即不同包层腐蚀剩余厚度、不同波长和不同环境介质折射率。理论仿真结果表明,存在一个腐蚀敏感区域。在该区域,光子晶体光纤的基模有效折射率和有效模场面积决定于包层腐蚀剩余厚度、波长和环境介质折射率的改变。实验结果表明,当包层腐蚀剩余厚度小于敏感区域下边界时,环境介质折射率的变化对光子晶体光纤的光学性能有显著影响。这种化学腐蚀的光子晶体光纤可以作为一种环境折射率敏感的传感器,可望应用在微型生物或化学传感方面。
【作者单位】:武汉理工大学光纤传感技术研究中心
【分类号】:TN253

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