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《中国光学学会2010年光学大会论文集》2010年
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等离子体烧蚀损伤的特性研究

刘晓凤  赵元安  李大伟  凌秀兰  王营  邵建达  
【摘要】:对高功率系统中常用的HfO2/SiO2高反膜中出现的等离子烧蚀损伤进行了研究。研究表明典型的等离子体烧蚀损伤在偏光显微镜下表现为不同于膜面颜色的表面杂色;扫描电镜下等离子体烧蚀区域与未辐照的膜层表现出不同的衬度,高倍扫描电镜下观察烧蚀区域,发现烧蚀区域内存在大量孔洞;烧蚀程度不同,小孔深度不同,原子力显微镜的测试结果表明孔洞的破坏深度没有超过保护膜的厚度;烧蚀区域的吸收相对于膜层的本征吸收并没有明显的变化,甚至小于膜层的本征吸收,没有出现和未辐照膜层类似的高吸收。
【作者单位】:中国科学院上海光学精密机械研究所
【基金】:国家863课题基金资助项目
【分类号】:O484.41

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