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利用功率谱密度函数表征光学薄膜基底表面粗糙度

沈正祥  王占山  马彬  徐敬  陈玲燕  
【摘要】:随着现在光学技术的发展,粗糙度小于1nm的超光滑表面光学元件在紫外和X射线光学、高反射率光学元件的研制、半导体工业中有着越来越广泛的应用。光学基底表面的粗糙度对光学薄膜的性质有着很大的影响,不但影响光学薄膜对基底的附着力,而且也影响了光学薄膜最终的光学性质。所以如何表征和评价光学基底的表面粗糙度是迫切需要研究的基本问题之一,对改善高光学薄膜的制造工艺,提高薄膜的光学性能有着非常积极的意义。

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