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《2006中国科协年会——数字成像技术及影像材料科学学术交流会论文集》2006年
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一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究

黄蕾  宾月景  黄新  刘强  张复实  
【摘要】:通过对空心酞菁磺酸对甲苯酯的光生酸性质的研究,发现该化合物可在紫外光照射下生酸。由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的性能,这类光生酸剂有望应用于光蚀刻技术中。

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