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《第五届中国辐射固化年会论文集》2001年
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微光学用超支化聚酯光致抗蚀剂

王跃川  冯宗材  赵凌  陈波  杜春蕾  
【摘要】:以分子链端富含-COOH,-OH以及丙烯酰氧基团的高支化聚酯、多官能丙烯酸酯和光引发剂(PI)配制了适用于制作微光学元件的新型光致抗蚀剂。该抗蚀剂烘干后在玻璃基片上的硬度在H-HB,对UV光的感度和反差可用显影液和PI的添加量调节,在混合光源和以TMAH水液显影时,感度和反差可分别达到E0-5.5 mJ/cm2,γ-8,分辨率接近接触暴光的最好水平-1 μm,该抗蚀剂具有优异的刻蚀深度与暴光能量的线性响应性能,这一特性是微光学元件的光克制作法的面型控制基础,以该抗蚀剂制作了高度达到-56μm,开口200×200μm的小口径微透镜阵列。

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