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《2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集》 2006年
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全方位离子注入与沉积工业机研制

汤宝寅  王浪平  王小峰  
【摘要】:全方位离子注入与沉积(PⅢD)技术发展到现在,已经逐步走向工业化应用。本文讨论了全方位离子注入与沉积工业机应该具备的功能,介绍了我课题组最近研制了一台全方位离子注入与沉积设备的结构和实施效果,其脉冲阴极弧等离子体源沉积速率达到2.878 (A|。)/s,IGBT固体开关调制器输出电压达到 10kV,能够一次处理多个工业零件。

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