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《2011中国材料研讨会论文摘要集》2011年
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磺化石墨烯与聚吡咯复合膜的电化学沉积

刘安然  石高全  
【摘要】:磺化石墨烯与聚吡咯复合膜通过在含有吡咯单体、磺化石墨烯、十二烷基苯磺酸的水溶液中电化学沉积制备产生。电化学聚合过程中,自身带负电荷的磺化石墨烯由于作为聚吡咯的掺杂剂,因而均一分散在聚吡咯体相中。磺化石墨烯的引入显著提高了聚吡咯膜的电导率和电化学性能。含有质量比40%磺化石墨烯的复合膜在0.5Ag-1的放电速率下具有285Fg-1的电容量。复合膜相比于纯聚吡咯膜在电化学稳定性有了明显的提高。
【作者单位】:清华大学化学系
【分类号】:TB383.2

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