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《2004年中国材料研讨会论文摘要集》2004年
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等离子体注入/沉积(PⅢ&D)对材料表面改性的研究进展

傅劲裕  朱剑豪  
【摘要】:正等离子体注入/沉积(PIIID),由于其具有高的效率与大面积改性等优点,在材料表面改性和薄膜的制备方面有广泛的应用,已发展成为一种非常有效的技术。本文介绍了等离子体注入/沉积(PIIID)技术在以上几方面的研究进展及其应用前景,并对Ti基、Si基以及聚合物材料的表面注入改性等研究工作进行了报道。经过等离子体注入/沉积(PIIID)处理,上述材料均显示出良好的生物兼容性、高的表

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