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《2004年中国材料研讨会论文摘要集》2004年
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关于抛光硅片清洗和IPA干燥技术的研究

齐旭东  熊诚雷  史舸  郭体强  姚振民  
【摘要】:本文介绍在我们的采用OPSC溶浸式湿法化学清洗,串联的SC-1槽和兆声去除颗粒,O3工艺形成均匀硅氧化膜,最后用IPA系统干燥。整个系统采用多功能全自动的清洗,达到较理想的清洗效果,生产出的100mm,125mm,150mm抛光硅片较好能满足国内外客户的要求。另外,本文在如何消除IPA干燥后的边缘目检缺陷(edge spot)作了几点探讨和实践,使抛光硅片的目检缺陷降低在可控范围内.

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