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《纳米材料和技术应用进展——全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集(下卷)》2003年
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氩离子注入单晶Si表面微观摩擦磨损行为研究

孙蓉  徐洮  刘惠文  张治军  薛群基  
【摘要】:利用氩离子注入技术改善单晶Si表面的摩擦磨损性能,并用扫描电子显微镜研究了离子注入前、后,Si单晶在线性加载条件下的磨损机理。研究结果表明,经过1×10~(17)Ar~+/cm~2剂量的氩离子注入后,单晶Si表面的抗磨损性能有了明显的提高。氩粒子的注入改善了单晶Si表面的韧性,提高了摩擦磨损性能。

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