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《纳米材料和技术应用进展——全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集(下卷)》2003年
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SiO_2纳米多孔薄膜的制备

杨大祥  张长瑞  周新贵  冯坚  王娟  郭钊  绉思卿  
【摘要】:SiO_2纳米多孔薄膜是超大规模集成电路(ULSI)互连系统的最佳候选绝缘介质之一。本文以正硅酸乙酯、异丙醇、去离子水、盐酸、氨水为原料,采用溶胶-凝胶工艺、旋转涂胶工艺及超,临界干燥工艺制备纳米多孔SiO_2薄膜。研究了溶剂异丙醇用量及与溶胶粘度变化的关系,考察了溶胶粘度和匀胶转速对匀胶均匀性的影响,并对纳米多孔SiO_2薄膜的微观形貌以及截面结构进行了分析。

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【参考文献】
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