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《2000年材料科学与工程新进展(下)——2000年中国材料研讨会论文集》2000年
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对化学镀Ni-P亚稳态相图的探讨

向阳辉  胡文彬  刘新宽  罗守福  赵昌正  丁文江  
【摘要】:相图是材料研究的一个重要工具,但是由于相图标定的是平衡状态下的相结构,而Ni-P化学镀层在镀态不处于平衡状态,而是一种正稳状态。因此,建立化学镀Ni-P的亚稳态相图,对于化学镀Ni-P的研究和实践大有裨益。本文在对不同磷含量的镀层进行的DSC分析以及文献数据的基础上,对R.N.Duncan的化学镀Ni-P亚稳态相图提出了质疑。分析表明,磷含量在共晶成分附近的镀层在加热过程中发生的是共晶型转变,而亚共晶和过共晶成分的镀层在加热过程中各发生两次转变,即亚共晶成分(1)β→β+α→α+Ni_3P;(2)β+γ→α+γ→α+Ni_2P和过共晶成分γ→γ+Ni_xP_y→α+Ni_3P。利用XRD测试验证了过共晶成分镀层在加热过程中磷含量超过Ni_3P成分的亚稳相Ni_xP_y的存在。根据分析结果对R.N.Duncan的亚稳态相图进行了修正,修正后的亚稳态相图可以更清晰地对化学镀层的组织结构的转变过程进行解释。

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