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基于二次莫尔条纹纳米光栅传感器光学信号仿真

马修水  钟伟红  关宏伟  闫如胜  费业泰  
【摘要】:由两组光栅副形成的一次莫尔条纹干涉形成二次莫尔条纹,通过对二次莫尔条纹信号处理和细分,可实现纳米级测量精度,其中,二次莫尔条纹质量对纳米光栅传感器质量有重要的影响。本文基于Lighttools软件对形成二次莫尔条纹信号能量进行仿真,找出二次莫尔条纹信号的变化规律,为后续信号处理和电子细分电路设计提供理论模型。

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