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《第十二届全国磁学和磁性材料会议专辑》2005年
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磁性金属多层膜微结构及性能的研究

李明华  于广华  朱逢吾  曾德长  赖武彦  
【摘要】:采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta和Ta/NiFeⅠFeMn/Bi(Ag,Cu)/NiFeⅡ/Ta多层膜。用XRD研究了薄膜样品Ta/ NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta的织构。在NiFeⅠ/FeMn界面沉积大量的Cu也不会影响FeMn层的(111)织构。与此相反,在NiFeⅠ/FeMn界面沉积少量的Bi,Ag,FeMn层的织构就会受到破坏。研究发现,这和隔离层原子的品体结构和晶格常数有关。在Ta/NiFeⅠ/FeMn/Bi(Ag,Cu)/ NiFeⅡ/Ta多层膜中,研究了反铁磁薄膜FeMn与铁磁薄膜NiFeⅠ和NiFeⅡ间的交换耦合场Hex1和Jex2相对于非磁金属隔离层Bi,Ag,Cu厚度的变化关系。实验结果表明:随着胙磁金属隔离层厚度的增加,Hex1的大小基本不变,保持在130-140 Oe之间。交换偏置场Hex2随着Bi, Ag,Cu厚度的增加急剧下降并趋于平滑。当Bi,A异,Cu的厚度分别为0.6,1.2,0.6 nm时,交换偏置场Hex2下降为11,7和1 Oe。此后,随着隔离层厚度的增加交换偏置场Hex2基本不变。

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1 李明华;于广华;朱逢吾;曾德长;赖武彦;;磁性金属多层膜微结构及性能的研究[A];第十二届全国磁学和磁性材料会议专辑[C];2005年
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