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《第二十五届中国(天津)2011’IT、网络、信息技术、电子、仪器仪表创新学术会议论文集》2011年
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应用全自动VPD-ICPMS设备测试8英寸硅抛光片表面金属离子含量

王国瑞  吴晓明  张宇  时金侠  李翔  
【摘要】:随着半导体器件加工尺寸的缩小,对抛光片表面金属离子含量的要求逐渐增加。传统手动VPD-ICPMS法测试金属离子含量已无法满足高规格半导体器件的生产。本文利用全自动VPD配合ICPMS分析的方法实现低于1×10~9atom/cm~2的最低检出限,同时能实现超过96%的回收率,满足高精度半导体加工的测试要求,类似的测试在国内外尚属首次。
【作者单位】:天津中环领先材料技术有限公司
【分类号】:TN307

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【共引文献】
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1 张进;吴良欢;王敏艳;;铁氮配施对稻米中铁、锌、钙、镁和蛋白质含量的影响[J];农业环境科学学报;2007年01期
2 张华;王英锋;施燕支;陈玉红;;微波消解-ICP-MS法测定多种中成药中的十三种有害元素[J];首都师范大学学报(自然科学版);2007年03期
3 张平;齐剑英;杨春霞;陈永亨;;分级提取-电感耦合等离子体质谱分析黄铁矿烧渣中重金属的化学形态[J];冶金分析;2006年06期
4 郭志英;于水;;HPLC/ICP-MS在环境样品的痕量元素形态分析中的应用[J];质谱学报;2006年01期
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2 李科技;由佰玲;武卫;孙晨光;李翔;;单抛机双面硅抛光片有蜡贴片工艺研究[A];第二十五届中国(天津)2011’IT、网络、信息技术、电子、仪器仪表创新学术会议论文集[C];2011年
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2 王彦 胡宗京;腾飞 向着新的辉煌[N];中国改革报;2011年
3 记者 刘慧敏;国家拨上亿资金支持立立电子[N];宁波日报;2011年
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5 赵志伟;从大到强的跨越[N];洛阳日报;2005年
6 蔚文;硅片市场机遇挑战并存[N];中国工业报;2003年
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8 记者 孙利华;加大技改力度 增强企业活力[N];洛阳日报;2005年
9 常贵洪;半导体产业快速增长硅材料跟着飘红[N];中国有色金属报;2004年
10 赛迪顾问股份有限公司半导体咨询事业部;硅片市场:机遇挑战共存[N];中国电子报;2003年
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