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《天津市电镀工程学会第九届学术年会论文集》2002年
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电化学制备纳米金属多层膜与多层纳米线

迟广俊  冯钊永  赵瑾  姚素薇  
【摘要】:分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件, 并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征。通过对比,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点。在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,并采用TEM对多层线进行了表征。

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