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磁头/磁盘系统气体稀薄效应的影响与数值分析

牛荣军  黄平  孟永钢  温诗铸  
【摘要】:结合理论和数值计算分析了稀薄效应对磁头/磁盘系统纳米间隙润滑的影响。从膜厚的角度来看,低于气体分子平均自由程的比例并不大。而从膜厚和压力2方面来看,处于稀薄效应区域的比例将大大增加。实际的磁头/磁盘系统中,磁头的大部分仍工作在稀薄气体的滑流区域,离稀薄气体的过渡区还较远。考虑稀薄效应后,磁头/磁盘系统的重要工作性能参数,都有减小的趋势。

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1 牛荣军;黄平;孟永钢;温诗铸;;磁头/磁盘系统气体稀薄效应的影响与数值分析[A];2006全国摩擦学学术会议论文集(二)[C];2006年
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