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保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷

许桂雯  欧阳征标  
【摘要】:利用光学传输矩阵法研究了10种一维缺陷态光子晶体。研究发现,介质层的光学厚度离理论值的偏移量小于3%时,光子禁带不会发生分裂。缺陷层的位置越靠近光子晶体中央,光子禁带越容易分裂;衬底的引入、机械摩擦导致的外层介质的磨损等都不会导致光子禁带分裂。基本上来说, 当高低折射率介质光学厚度比(R)小于0.66时,高折射率介质层厚度的允许偏移量(允许 d)比较大, 而低折射率介质层厚度的允许 d 值比较小;当 R 大于1.13时,低折射率介质层厚度的允许 d 值比较大,而高折射率介质层厚度的允许 d 值比较小。中心缺陷为低折射率介质、两边对称的结构(结构三) 所允许 d 的绝对值最大。总体上看,当 R>1.5时,允许 d 值比较大,对制作工艺的要求比较低。

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1 许桂雯;欧阳征标;;保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷[A];2007年中国青年光学学术研讨会论文摘要集[C];2007年
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1 范春珍;几种软物质材料的物性研究[D];复旦大学;2010年
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