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《2009年全国电子电镀及表面处理学术交流会论文集》2009年
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AZ91D镁合金在AlCl_3-EMI_mCl离子液体中电镀Al研究

杨海燕  郭兴伍  吴国华  丁文江  
【摘要】:采用酸性AlCl_3-EMI_mCl离子液体在AZ91D镁合金表面进行电镀Al层,研究了不同机械打磨方式及镀液中水含量对镀层的影响。利用SEM、EDS和XRD对镀层表面形貌、横截面、成分和物相组成进行观察和分析,对Al镀层的耐腐蚀性能进行了电化学测试。结果表明:细砂上以画圆方式打磨比粗砂上沿单一方向打磨获得的镀层平整、致密、均匀;离子液体中少量水的存在明显腐蚀镁基体,不利于获得结合良好的Al镀层;AZ91D经细砂以画圆方式打磨、清洗后在干燥的AlCl_3-EMI_mCl离子液体中获得的Al层致密均匀,与基体良好,使AZ91D基体腐蚀电位从-1685mV正移至-1241mV,腐蚀电流从16.8μA·cm~(-2)下降至9.2μA·cm~(-2),镀Al层阳极极化过程存在钝化现象,钝化区宽370mV,电镀Al层明显降低了基体的腐蚀速率,具有良好的耐腐蚀性能,能对基体起到良好的防护作用。

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【参考文献】
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