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《2007年上海市电子电镀学术年会论文集》2007年
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电沉积CoNiMo(P)非晶软磁合金薄膜的工艺优化

周巧英  闫阿儒  葛洪良  宋振纶  
【摘要】:铜基底上电沉积制备了 CoNiMo(P)非晶软磁合金薄膜。设计正交实验,并对实验数据进行误差分析,得到制备 CoNiMo(P)非晶软磁合金薄膜的优化工艺条件为.实验表明,优化条件下制备的沉积态 CoNiMo(P)合金薄膜具有非晶态结构、膜面光亮、平整、致密.磁性测量结果显示:CoNiMo(P)合金薄膜的易磁化轴平行于膜面,平行方向上饱和磁化强度(Ms)为142 emu g~(-1),矫顽力(Hc)为25Oe.与相同条件下制备的纯钴薄膜相比,Ms(?)减小2%,而 Hc 减小84%,软磁性得到了改善。

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【参考文献】
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【二级参考文献】
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