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《西部大开发 科教先行与可持续发展——中国科协2000年学术年会文集》2000年
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溅射的输运理论Ⅰ:溅射原子的出射深度

张竹林  
【摘要】:正众所周知,溅射现象在薄膜和表面材料合成、加工制备技术和工艺,以及微电子、微机械技术等方面有着十分广泛而重要的应用.现代溅射理论是由丹麦著名理论家P.sigmund教授于1969年建立的.这个理论成功地解释了大量的溅射产额实验的数据,从而为世界公认为传统理论.但近年来人们发现Sigmund理论与许多新的实验结果不一致,溅射原子的出射深度就是国际上倍受关注的焦点问题之一.人们知道,它不仅仅是最重要的应用参数之一,而且其实验值与传统理论相去甚远.
【作者单位】:安徽省淮南工业学院数理系
【分类号】:O562.5

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