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《材料科学与工程技术——中国科协第三届青年学术年会论文集》1998年
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沉积温度对CN_x薄膜应力和硬度的影响

郑伟涛  
【摘要】:研究了磁控溅射生长 CN_X 薄膜材料过程中沉积温度对应力和硬度的影响。薄膜应力在沉积温度为350 ℃时达到最大值5 GPa,而在沉积温度为100℃时,薄膜具有较小的应力。硬度测量结果显示,在350℃时生长的 CN_X 薄膜具有最高硬度。最后,对薄膜应力、硬度与结构的关系进行了讨论。
【作者单位】:吉林大学材料科学系
【分类号】:O484.5

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