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《第二届中国膜科学与技术报告会论文集》2005年
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离子膜-电沉积工艺选择性分离铜及其在刻蚀液清洁生产中的应用

李德良  陈仁华  龙丽娟  
【摘要】:研究了一种基于膜分离和电解组合(M-E)的闭路流程来就地再生铜蚀刻液,现场回收其中的铜并使其实现循环使用.其特点是采用离子膜-电沉积技术从铜蚀刻液中选择性分离出铜,与此同时那些对蚀刻有用的成分也得到回收.实验结果表明,铜分离过程的电流效率达90%以上,其最佳条件为:槽电压2~2.5 V,操作温度40~50℃,电流密度控制在500~1500A/m~2,再生后的蚀刻液经组分浓度调控后可返回使用,且经过50次使用—处置—再生的回合后其应用性能与新蚀刻液无异.

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