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《华东三省一市第三届真空学术交流会论文集》2000年
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金刚石薄膜电子场发射研究进展

茅东升  王曦  李炜  柳襄怀  
【摘要】:本文综述了近年来引起广泛兴趣的金刚石和类金刚石薄膜场发射性能的研究进展。指出,由于金刚石薄膜制备条件和组织结构的不同,其电子场发射性能存在很大的差异。同时表明,金刚石薄膜是出色的场发射材料,由于其很低的或者是负的电子亲和势(导带能级位于真空能级之上)和良好的化学稳定性,在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。

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