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毛莉安竹邬琦琦周晓松  
【摘要】:为了研究含氚钛膜中的氚含量及分布,采用成像板技术对不同氚钛原子比的含氚钛膜进行了分析。研究发现,对处于单相区的含氚钛膜,其表面氚分布比较均匀,处于双相区的含氚钛膜表面氚分布呈现明显的不均匀性。为了测量含氚钛膜中的氚含量,采用不同含量的氚钛膜样品作为标样标定了氚含量和PSL的关系曲线,标样的氚含量由PVT方法测得。为了减少氚对成像板的污染,采用加麦拉膜和垫圈的方式放置成像板,将成像板上的氚污染降到了本底水平。为了研究含氚钛膜中氚的深度分布,采用蒙特卡罗模拟了不同深度处的氚在成像板中的能量沉积,对成像板技术用于氚的深度分布分析进行了初步的探索研究。


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