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基于双缝图形空间像峰值光强差的光刻投影物镜奇像差检测技术

涂远莹  王向朝  
【摘要】:正光刻工艺对投影物镜波像差的检测和控制有着极其严格的要求。快速、高精度的原位波像差检测技术一直是提高光刻性能的重要研究课题。本课题组提出了基于相移掩模空间像光强不均衡性的光刻投影物镜偶像差检测技术。该技术以成像面上光栅的相邻峰值光强差值为检测对象,在简化测量步骤的同时有效提高了偶像差的测量精度,其中像散Z_5和球差Z_9的测量精度分别达到了0.234nm和0.099nm。上述利用空间像光强不均衡性的检测方法并未拓展到奇像差的检测过程。本

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