用于光刻投影物镜波像差检测的照明设置优化
【摘要】：正用于低工艺因子光刻的高端光刻机对投影物镜波像差的控制有着极其严格的要求。这一需求推动了各类投影物镜波像差检测技术的迅速发展。在投影物镜进行装校之前,国际上通行的方法是使用干涉仪对投影物镜的波像差进行检测。虽然通过干涉仪可以实现投影物镜波像差的高精度检测,但这一技术只适用于离线情况。投影物镜装校完毕之后,必须依赖高精度的原位波像差检测技
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