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基于移相掩模优化的光刻机投影物镜偶像差检测技术

袁琼雁  王向朝  邱自成  
【摘要】:正投影物镜是步进扫描投影光刻机最重要的光学系统。投影物镜的波像差会导致光刻成像质量的恶化和光刻工艺容限的减小。随着光刻特征尺寸的不断缩小,尤其是各种分辨率增强技术的使用,投影物镜偶像差造成的成像质量恶化问题越来越突出。偶像差主要包括球差和像散,球差主要引起掩模图形成像的最佳焦面偏移,像散主要引起相互垂直的线条成像的最佳焦面偏离,从而造成

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