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一种新型反应室的分析与实验

尹盛  王敬义  赵亮  赵伯芳  
【摘要】:对振动阴极上粉体的运动分析表明粉粒在阴极表面停留的时间与阴极表面倾斜角、气体反吹速度和粉粒大小等有关,其停留时间可达10min 以上。用这种等离子反应室对硅粉刻蚀,可在硅粉流经反应室一次即可刻蚀200nm 的表面厚度.这意味着纯化硅粉的任务能一次完成.实验结果表明新反应室比常规反应室具有很大的优点.

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1 尹盛;王敬义;赵亮;赵伯芳;;一种新型反应室的分析与实验[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(10)[C];2007年
2 王敬义;尹盛;赵亮;赵伯芳;;冷等离子体中的粉体研究[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(10)[C];2007年
3 赵亮;尹盛;王敬义;赵伯芳;;等离子振动反应室的研究[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(10)[C];2007年
中国重要报纸全文数据库 前1条
1 证券时报记者 山水;新大新材硅粉提纯项目已处中试阶段[N];证券时报;2011年
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