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离子束溅射Si/Ge多层膜的界面结构研究

陈寒娴  杨瑞东  邓荣斌  秦芳  王茺  杨宇  
【摘要】:采用离子束溅射技术,在玻璃衬底上制备了不同周期数的 Si/Ge 多层膜样品.通过 Raman 光谱和 X 射线小角衍射对薄膜进行了表征和分析,发现随着生长周期数的增加,层与层之间的互扩散效应逐渐减弱,界面结构逐渐清晰,生长周期为25的样品界面最平整.

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