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液相法新工艺制备类金刚石膜的结构及其电学性能分析

汲大朋  刘贵昌  
【摘要】:采用液相法,在以硅片为阳极的工艺条件下沉积了一层 DLC 薄膜.通过 Raman 和 FTIR 光谱的分析,证实了该薄膜为含氢类金刚石薄膜(a-C:H).并且对薄膜的交流阻抗谱(EIS)进行了测试和分析,确定谊膜有非常高的阻抗值和良好的耐蚀性.

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