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《第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(4)》2007年
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锡基氧化物薄膜的制备及结构表征

张宏斌  祝要民  裴世轻  李董轩  赵胜利  
【摘要】:采用直流反应溅射并结合热处理工艺制备锡基氧化物薄膜(SnO_x,1≤x≤2),利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)、X 射线衍射仪(XRD)考察退火温度对薄膜表面形貌、组成和结构的影响,并通过恒流充放电初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明,在400~ 600℃退火温度下制备的 SnO_x 薄膜表面光滑、结构致密;随着退火温度的升高,薄膜中 SnO 的含量逐渐减少,SnO_2的含量逐渐增加,薄膜的晶粒尺寸增大,大小为30~50nm;600℃退火2h 获得的 SnO_x 薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。

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