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《第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(3)》2007年
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Fe_3O_4缓冲层对CoFe_2O_4薄膜磁性能的影响

金沈贤  钟智勇  任学恒  张怀武  
【摘要】:采用射频磁控溅射在基片 Si(100)和 Fe_3O_4 (20nm)/Si(100)上制备了钴铁氧体(CoFe_2O_4)薄膜,制备的薄膜在空气气氛中进行300~1000℃的退火处理,采用 XRD、VSM 分析了薄膜的微结构以及磁性能.结果表明, 制备的钴铁氧体薄膜均具有尖晶石结构,Fe_3O_4缓冲层薄膜促进了钴铁氧体薄膜的结晶,但降低了钴铁氧体薄膜的垂直各向异性和垂直于膜面方向的矫顽力,而钴铁氧体薄膜的磁化强度和矩形度得到了一定的提高.

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【引证文献】
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【共引文献】
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1 金沈贤;缓冲层对钴铁氧体薄膜结构和性能影响[D];电子科技大学;2008年
【同被引文献】
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