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《第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(1)》2007年
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不同溅射气压对β-FeSi_2形成的影响

曾武贤  谢泉  梁艳  张晋敏  肖清泉  杨吟野  任学勇  
【摘要】:采用磁控溅射方法,在不同的溅射气压(Ar 气0.5~3.0Pa)条件下沉积纯金属 Fe 到 Si(100)衬底上, 通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h,直接形成了正交的β-FeSi_2薄膜,利用 X 射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、椭偏光谱仪,对不同溅射气压下合成的β-FeSi_2薄膜的结晶特性、表面形貌及光学性能进行表征,研究了不同溅射气压对制备β-FeSi_2薄膜的影响.结果表明:在1.5Pa 时能形成较好的β-FeSi_2薄膜,临界溅射气压在2.0Pa 附近,当溅射气压低与临界值时, β-FeSi_2薄膜的成核密度较高,且成核密度随溅射气压的增大而降低;当溅射气压超过临界值以后,β-FeSi_2薄膜的成核密度基本不变;薄膜的折射率 n 随压强的增大而增大,消光系数 k 随压强的增大而减小.

【共引文献】
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