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《2006年全国功能材料学术年会专辑》2006年
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有机硅/SiO_2多层防护涂层的原子氧侵蚀性能研究

多树旺  李美栓  周延春  
【摘要】:在空间环境地面模拟设备中对有机硅/SiO2 涂层试样进行了原子氧暴露实验,并采用光谱仪、 SEM/EDS等分析手段对暴露前后试样表面的形貌和光学性能变化进行了研究。实验结果表明采用多层复合涂层可以覆盖基体表面的小的突起和微裂纹,产生一个比较平滑的表面,能够减少涂层表面的缺陷数量, 从而降低了原子氧对基体的侵蚀,使得基体材料的光学镜面反射性能得到改善。采用多层复合涂层可以避免在空间环境使役过程中由于防护涂层表面存在缺陷导致AO对基体的掏蚀。即在表层裂纹处,底层的有机硅层与AO反应形成SiO2,仍可起到保护作用从而能防止基体受到侵蚀。

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