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《第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ》2004年
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氧分压对反应磁控溅射ZrO_2薄膜光学透射率的影响

赵莎  徐可为  
【摘要】:从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响。结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降。

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