SrBi_2Nb_2O_9的PLD制备及其非线性光学特性
【摘要】:利用脉冲激光沉积(PLD)方法在MgO(100)基片上生长了SrBi2Nb2O9薄膜.XRD分析表明在MgO基片上生长的薄膜呈(115)单一取向,具有良好的结晶性;XPS数据分析得到薄膜中Sr、Bi和Nb的原子比约为1:2:2.05。利用Z扫描技术对薄膜的三阶非线性光学性质进行了测量,通过开孔(Open-aperture)和小孔(Close-aperture)的测量,计算出三阶非线性光学极化率的实部Rex(3)和虚部Imx(3)分别为4.139×10-7esu,1.104×10-7esu.
【作者单位】:湖北大学物理学与电子技术学院 湖北大学物理学与电子技术学院 湖北大学物理学与电子技术学院 湖北大学物理学与电子技术学院 湖北大学物理学与电子技术学院
【基金】:国家自然科学基金资助项目(50272020) 教育部科学技术研究重点项目(03084)
【分类号】:TB34
【基金】:国家自然科学基金资助项目(50272020) 教育部科学技术研究重点项目(03084)
【分类号】:TB34
【参考文献】 | ||
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【共引文献】 | ||
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相关作者 | ||||||||||||||||||||||||
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