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《第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ》2004年
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溅射气压对ZrO_2薄膜微结构与光学性能的影响

刘建华  徐可为  
【摘要】:利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60—80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升:透射率在700~1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.

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