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《第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集》1998年
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在镜面抛光的硅衬底上沉积金刚石薄膜

纪红  金曾孙  顾长志  金文成  吕宪义  邹广田  
【摘要】:我们采用在镜面抛光的硅衬底上加负偏压增强成核,然后利用微波等离子体化学气相沉积方法生长金刚石薄膜,通过改变偏压成核阶段的不同条件制备出一系列样品,与直接在镜面抛光硅衬底上生长的金刚石薄膜相比,成核密度明显提高。
【作者单位】:超硬材料国家重点实验室吉林大学
【分类号】:TB383.2

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