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《第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集》1998年
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金刚石厚膜界面层结构研究

白亦真  金曾孙  王春蕾  姜志刚  吕宪义  邹广田  
【摘要】:本文采用直流热阴极等离子体化学气相沉积法(简称直流PCVD方法)制备了金刚石厚膜,并且根据本方法的特点,提出了一个新的测量金刚石膜界面层结构的方法。采用显微拉曼光谱仪、X射线光电子谱仪(XPS)、及X射线衍射仪(XRD)等,测试分析了界面层的成分和结构。测试分析结果表明,界面层中含有石墨结构,它是以纳米级微晶的状态存在的。另外,界面层中含有O、Mo、Ta等杂质。对于它们的存在状态进行了分析研究。
【作者单位】:吉林大学超硬材料国家重点实验室
【分类号】:O484

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