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《第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集》1998年
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直流磁控溅射SiC薄膜的制备与性能

芶立  亓常松  冉均国  郑昌琼  
【摘要】:本文采用直流磁控溅射法直接溅射烧结型SiC靶材制备SiC薄膜,通过控制系统的真空度和绝缘性能,得到了非晶SiC薄膜。研究了气体压力、溅射功率、靶基距等工艺条件对沉积速率的影响。测试了薄膜的硬度和热敏特性。

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