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《首届中国功能材料及其应用学术会议论文集》1992年
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用化学气相沉积法制备金刚石薄膜时氢的分步刻蚀效应

何金田  张兵临  王建恩  沈书泊  宋好奇  
【摘要】:正近年来,越来越多的人成功地用化学气相沉积法(CVD)制备出金刚石薄膜,但是,如何提高金刚石薄膜的质量仍然是大家极为关心的问题。熟知,氢原子的刻蚀在化学气相沉积法制备金刚石薄膜时具有重要的作用。Angus等人的研究表明:在1000℃、50atm下,原子氢作用时可以除去99.9%的石墨而金刚石仅损失0.22%。利用氢原子对石墨的刻蚀速率大于对金刚石的刻蚀速率可以抑制石墨的生长。NOZOMU UCHIDA等人报导了对热丝法合成的金刚石薄膜用氢后刻蚀效应去除膜表面的石墨和无定形碳,从而使金刚石薄膜的表面质量得到改善。不足之处,这种方法使金刚石薄膜有明显的孔洞,增加了表面的粗糙度。我们在微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的过程中用氢分步刻蚀的方法不仅使薄膜的表面而且使膜的整体质量都得到了提高。
【作者单位】:河南省基础及应用科学研究所郑州大学
【分类号】:TB383.2

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