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《专利法研究(2014)》2017年
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集成电路布图设计保护制度热点问题研究

王倩  
【摘要】:自2001年10月1日起,我国正式实施集成电路布图设计保护制度。15年间,集成电路布图设计保护制度在保护布图设计智力成果、鼓励技术创新、促进科学技术发展等方面发挥着举足轻重的作用,但同时,随着该制度的深入实施,其在申请、登记和市场利用等环节也逐渐暴露出一些问题。例如,集成布图设计专有权的保护客体有扩展的需求;登记手续中一些审查标准不够明确;某些程序因规则缺失,不便与撤销程序、司法程序衔接等。笔者结合登记审查的实践经验,就上述问题提出一些个人的思考与建议。
【作者单位】:国家知识产权局专利局初审及流程管理部
【分类号】:D923.4

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