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《中国工程物理研究院科技年报(2005)》2005年
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偏压对TiN/Ti薄膜组织、结构和性能的影响

鲜晓斌  刘天伟  王庆富  王小英  
【摘要】:正过渡金属的氮化物硬质薄膜和一些氮化物多层薄膜被广泛应用于耐磨、抗腐蚀等方面。在这些氮化物中,TiN由于其优良的物理化学性能,在许多应用领域中占有重要的地位,同时具有很大的发展潜力和应用前景。电弧离子镀TiN镀层的制备工艺参数对薄膜的组织、结构有较大的影响,研究不同沉积参数对薄膜的组织、结构之间的内在关系,对优化沉积参数,提高薄膜的综合使用性能具有十分重要的作用。
【分类号】:TB383.2

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