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刘文科曹小华彭述明  
【摘要】:正研究了钛片和钼基钛膜(膜厚约5,13μm)表面阳极氧化和氧气氧化工艺条件,对阳极氧化层和氧气氧化层进行了表面表征,包括XPS的化合价分析、AES的深度剖析和连续性检测。阳极氧化的工艺条件为钛膜阳极,室温,10V和20V直流电压,1mol/L的H2SO4钝化液,时间2,5min,阴极为含钛量99.9%的钛板(厚约0.6mm),阴阳极面积比小于2:1。氧气氧化的工艺条件温度750,600℃和(400±15)℃;氧气压力约0.05,0.1MPa;氧化时间2,5h。


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