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《中国工程物理研究院科技年报(2002)》2002年
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离子束辅助沉积钯钇合金膜表面性能

王和义  傅依备  韩军  
【摘要】:正钯钇合金膜的表面状况直接影响其渗氢速率的大小及化学稳定性,采用SEM和AFM 分别研究了离子束辅助沉积钯膜及钯钇合金膜的表面形态,以对制备工艺提供指导。实验采用的溅射靶为Pd靶(板材101mm×100mm×1mm)、Pd-Y合金靶(板材 100mm×100mm×1mm),载体为n型(100)取向的单晶硅片。载体和靶材经去污处理后在离子束轰击能量为20keV,溅射源束流100mA,本底真空约0.4mPa,工作真空约4mPa, 氩气流速约为6L/min的离子束辅助沉积装置上沉积钯膜或钯钇合金膜,沉积时间为 10-40min,表面形态分别采用SEM和AFM观测。
【分类号】:G174.44

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